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2010年 | 弁理士法人 深見特許事務所

外国知財情報レポート

外国知財情報レポートアーカイブ

中国意匠および韓国デザインについて

中国意匠および韓国デザインについて

EPC規則改正による影響等について

*EESRの記載内容について(EPC規則36関連)
*EESRへの応答について(EPC規則36関連)
*補正について(EPC規則137関連)
<補足> 関係条文

Bilski事件

*最高裁判決の概要
*USPTOが公表した暫定ガイダンスの概要

中国特許法の第3次改正に関するQ&Aについて

*秘密保持審査について
*同一発明創造についての同日の特許出願と実用新案出願について
*同一出願人による拡大先願について
*意匠特許の出願の際の意匠の概要説明などの文書の提出について
*意匠の合併出願について

特許審査ハイウェイプログラムについて

Ⅰ PCT-PPHについて
*PCT-PPHの概要
*日本国特許庁へ申請する場合
*欧州特許庁へ申請する場合
*米国特許商標庁へ申請する場合
Ⅱ 日欧特許審査ハイウェイ試行プログラムについて
Ⅲ 日米特許審査ハイウェイプログラムについて

米国・欧州・中国・韓国・台湾の早期審査制度について

Ⅰ米国・欧州・中国・韓国・台湾の早期審査制度について
 *米国の早期審査制度について
 *欧州(EPO)の早期審査制度について
 *中国の早期審査制度について
 *韓国の早期審査制度について
 *台湾の早期審査制度について
Ⅱ米国拡大版ファーストアクションインタビューパイロットプログラムについて